电镜附件_扫描透射电镜_扫描透射电子显微镜_参数,报价,型号-中国仪器网 - 澳门永利网上娱乐

中国仪器网

欢迎您: 请登录 免费注册 仪器双拼网址:mylanipaddress.com
官方微信
中国仪器网

澳门永利网上娱乐

赛默飞世尔
中国仪器网/ 产品中心/ 光学仪器/ 电子光学仪器/ 电镜附件
电镜附件

电镜附件概述

电镜附件是插入或连接在电子显微镜上实现辅助功能的附属硬件或软件。用透射电子显微镜观察时的样品需要处理得很薄。常用的方法有:超薄切片法、冷冻超薄切片法、冷冻蚀刻法、冷冻断裂法等。对于液体样品,通常是挂预处理过的铜网上进行观察。电镜附件优点:1. 利用扫描透射电子显微镜可以观察较厚的试样和低衬度的试样。2. 利用扫描透射模式时物镜的强激励,可以实现微区衍射。3.进行高分辨分析、成像及生物大分子分析。电镜附件应用领域是宽广的。透射电子显微镜在材料科学、生物学上应用较多。无论是物理、化学、生物、医学等基础学科,还是材料、微电子等应用学科都有它的用武之地。
徕卡高压冷冻仪 Leica EM ICE

徕卡高压冷冻仪 Leica EM ICE

品牌:德国徕卡
型号:EM ICE
ALT327 impact-freezer 冲撞冷冻制样

ALT327 impact-freezer 冲撞冷冻制样

品牌:Gatan
型号:ALT 327
徕卡高压冷冻仪 Leica EM PACT2

徕卡高压冷冻仪 Leica EM PACT2

品牌:德国徕卡
型号:EM PACT2
Alicona MeX 3D 扫描电镜图像软件

Alicona MeX 3D 扫描电镜图像软件

品牌:裕隆时代
型号:MeX
DE-12直接电子探测相机

DE-12直接电子探测相机

品牌:美国Direct Electron
型号:DE-12
电镜附件查询条件
产品品牌
收起品牌
产品产地
不限 中国大陆 大洋洲欧洲亚洲美洲
厂商性质
不限 生产商授权代理商一般经销商
销售地区
江苏山东上海北京安徽浙江福建广东广西海南湖北河南江西天津河北山西宁夏西藏青海陕西四川云南贵州甘肃辽宁吉林黑龙江内蒙古香港台湾澳门湖南重庆新疆
不限
展开更多选项

电镜附件解决方案

电镜附件产品列表
排列样式:
  • >
Gatan  PECS II 685精密刻蚀镀膜系统

Gatan PECS II 685精密刻蚀镀膜系统

  • 品牌: 美国Gatan
  • 型号: PECS II 685
  • 产地:美国
  • 品牌: GATAN 名称型号:精密刻蚀镀膜系统PECS II 685制造商: 美国GATAN公司经销商:欧波同有限公司产品综合介绍:产品功能介绍Gatan公司的精密刻蚀镀膜仪 (PECS) II 是一款桌面型宽束氩离子抛光及镀膜设备。对于同一个样品,可在同一真空环境下完成抛光及镀膜。品牌介绍美国Gatan公司成立于1964年并于70年代末进入中国市场。Gatan公司以其产品的高性能及技术的先进性在全球电镜界享有极高声誉。作为世界领先的设计和制造用于增强和拓展电子显微镜功能的附件厂商,其产品涵盖了从样品制备到成像、分析等所有步骤的需求。产品应用范围包括材料科学、生命科学、地球物理学、电子学,能源科学等领域, 客户范围涵盖全球的科研院所,高校,各类检测机构及大型工业企业实验室,并且在国际科学研究领域得到了广泛认同。经销商介绍欧波同有限公司是中国领先的微纳米技术服务供应商,是一家以外资企业作为投资背景的高新技术企业,总部位于香港,分别在北京、上海、辽宁、山东等地设有分公司和办事处。作为蔡司电子显微镜、Gatan扫描电子显微镜制样设备及附属分析设备在中国地区最重要的战略合作伙伴,公司秉承“打造国内最具影响力的仪器销售品牌”的经营理念,与蔡司,Gatan品牌强强联合,正在为数以万计的中国用户提供高品质的产品与国际尖端技术服务。产品主要技术特点:精密刻蚀镀膜仪 (PECS) II,采用两个宽束氩离子束对样品表面进行抛光,去除损失层,从而得到高质量的样品,用于在SEM、光镜或者扫描电子探针上进行成像、EDS,EBSD,CL,EBIC或者其他分析,另外将这两支离子枪对准靶材溅射,可用来对样品做导电金属膜沉积处理,以防止样品在电镜中发生荷电效应。这款仪器被设计为不破坏真空,不将样品新鲜表面暴露在大气中,即可对抛光样品进行处理。样品的装卸是通过一个专门设计的装样工具在真空交换舱中完成。两支具有更大电压范围的小型潘宁离子枪,可提供快速柔和的抛光效果。低至100eV的离子束提供更柔和的抛削效果,用于样品的终极抛光。低能聚焦电极使得离子束的直径在几乎整个加速电压范围内都保持一致。每个离子枪都能准确独立地进行对中。在仪器运行过程中,离子枪的角度可随时进行调整。离子枪的气流可在触摸屏上通过手动方式或者自动方式进行调整, 用于优化离子枪的工作电流。PECS II样品台采用液氮制冷方式。可以有效的保护样品,避免离子束热损伤,消除可能的假象。集成的10英寸彩色触摸屏计算机可对PECS II系统的所有操作参数进行完全控制。此界面不仅可以设定所有参数并能够监控抛光过程。所有的操作参数还可以存为配方,调用配方可获得高精度重复实验。涡轮分子泵搭配两级隔膜泵保证了超洁净环境。通过Gatan的样品装卸工具能实现快速样品交换(< 1min),这样就能保证换样过程中加工舱室始终处在高真空状态。图片说明:(A)PECSII 抛光的样品表面的二次电子像,显示出高度孪晶的晶粒(B)PECSII 抛光后的锆合金的菊池花样(C)EBSD欧拉角分布图(D)IPFZ面分而战。照片由牛津永利娱乐网站材料学院Angus Wilkin-son 教授和Hamidreza Abdolvand 博士提供。数据是在配有Bruker Quantax EBSD系统的Zeiss Merlin Compact扫描电镜上采集。产品主要技术参数:离子源*离子枪两支配有稀土磁铁的潘宁离子枪,高性能无耗材*抛光角度±10°, 每支离子枪可独立调节离子束能量100 eV 到 8.0 keV离子束流密度10 mA/cm2 峰值离子束直径可用气体流量计或放电电压来调节样品台样品大小:最大直径 32mm, 最大高度 15mm样品装载: 对于截面样品抛光采用 Ilion II 专利的样品挡板,二次再加工位置精确。样品抛光及镀膜功能:兼具有平面抛光、截面抛光及溅射镀膜功能,靶材数:2个靶材切换:无需破坏真空,可直接切换样品旋转:1 到 6 rpm 可调束流调制:角度可调的单束调制或双束调制真空系统干泵系统80 L/s 的涡轮分子泵配有两级隔膜泵压力5 x 10-6 torr 基本压力8 x 10-5 torr 工作压力真空规冷阴极型,用于主样品室;固体型,用于前级机械泵*样品空气锁Whisperlok专利技术,无需破坏主样品室真空即可装卸样品,样品交换时间 < 1 min用户界面*10 英寸触摸屏操作简单,且能够完全控制所有参数和配方式操作*操作界面语言:提供中文、英文等多种选择产品主要应用领域:EBSD样品制备截面样品制备金属材料(合金,镀层)石油地质岩石矿物光电材料化工高分子材料新能源电池材料

三离子束切割仪 Leica EM TIC 3X

三离子束切割仪 Leica EM TIC 3X

  • 品牌: 徕卡显微系统
  • 型号: Leica EM TIC 3X
  • 产地:德国
  • 为您带来的优势 顶级性能 独特的三离子束系统,可获得最佳的截面处理质量,并可高效获得宽且深的切割区域,大大降低工作时间。并可实现在一次处理过程中最多处理3个样品。因此对有高通量需求的实验室,徕卡EM TIC 3X是最佳解决方案。 可装配系统 根据您的样品制备需要,可以有针对性地在徕卡EM TIC 3X上装配一体化设计样品台-标准样品台,多样品台或冷冻样品台。 冷冻样品台 针对温度敏感型样品如橡胶或水溶性高分子聚合纤维等,可以使用冷冻样品台对样品进行低温下处理,获得高质量处理结果。样品托和挡板的温度都可达到-150° C。 样品托 多种多样的样品托,适合于各类尺寸样品。 样品TOPO结构清晰可见 除了剖面切割,使用同一样品托还可对样品进行清洁及增强衬度的功能。 Leica EM TIC 3X - 设计和操作方面的创新性特点 高通量,提高成本收益 ;可获得高质量切割截面,区域尺寸可 达>4×1mm;多样品台设计可一次运行容纳三个样 品; 离子研磨速率高,Si材料150μm/ h,50μm切割高度,可满足实验室高通 量要求 ; 可容 纳 最 大 样 品 尺 寸 为 50×50×10mm ;可使用的样品载台多种多样 简单易用,高精度 ;可简易准确地完成将样品安装到载台 上以及调节与挡板相对位置的校准工 作 ;通过触摸屏进行简单操控,不需要特 别的操作技巧;样品处理过程可实时监控,可以通过 体视镜或HD-TV摄像头观察;LED照明,便于观察样品和位置校准 ;内置式,解耦合设计的真空泵系统, 提供一个无振动的观察视野 ;可在制备好的平整的切割截面上可 再进行衬度增强作用,即离子束刻 蚀处理;通过USB即可进行参数和程序的上 传或下载;几乎适用于任何材质样品 ;使用冷冻样品台,挡板和样品温度可 降至150°C L 。

2KV PCB可焊高压电源模块(15PPM低温漂/5mV超低纹波/极性接反保护/PMT电源/质谱

2KV PCB可焊高压电源模块(15PPM低温漂/5mV超低纹波/极性接反保护/PMT电源/质谱

  • 品牌: 西安威思曼
  • 型号: MCP
  • 产地:
  • 【型  号】 MCP 【功率(W)】 0.5W,1W 【最大输出电压(kV)】 ,0.3,0.5,0.8,1,1.1,1.25,1.5,2, 【在线订购】 【在线下载】 威思曼高压电源推出的MCP模块高压电源是光电倍增管,质谱仪,电子显微镜等专用超低噪音,高稳定性,小型化模块。价格有优势。 主要用途: 光电倍增管、电离室、正比计数管、盖革-弥勒(G-M)计数管、电泳、透镜、质谱仪、探测器、 探测器、闪烁器、电子束、离子束、静电印刷、高电压偏置、医疗化工,科学实验,工业应用。 MCP系列是一款印制电路板安装式高压电源模块,体积小,超低纹波5mV,超高稳定性,15ppm低温度漂移,六面屏蔽超低噪声。有过流、短路、拉弧等保护。 输入电压: 12±0.5V (可选:-5:5V±1V,-15:15V±1V ,-24:24V±1V) 输入电流: 空载:15mA 满载:95mA 输出电压范围: 0到2000V 或 0到-2000V 最大输出功率: 0.5W,1W。 电压调整率:0.01%,典型的。 负载调整率:0.01%,典型的。 稳定性: 每小时0.01%,每8小时0.03%。 纹波/噪音: 5mV(最大电压和最大电流时),典型的。 输出电压控制:通过外部电压控制(0 V 到 +5 V) 或通外部电位器给定 (50 kΩ ±2.5 kΩ) 电压控制输入阻抗:80KΩ 输出电压上升时间:50ms(0-99%) 温度系数:15ppm/℃ 温度: 工作温度:0℃到50℃ 储存温度:-20℃到+70℃ 湿度: 工作湿度:80%以下,无冷凝。 储存湿度:80%以下,无冷凝。 保护功能: 模块有输入电压极性接反保护,控制电压大或接反保护,持续的过载保护,短路保护,拉弧保护 尺寸:D46 X W24 X H12 重量:31g(1.09 OZ) 有关威思曼及其更多高压产品的信息,请致电 086-029-33693480或访问其网站: www.wismanhv.com 威思曼高压电源有限公司,通过ISO9000:2008质量体系认证,公司拥有出色的高压电源研发团队,完善的高压电源研发软件和测试软件。全球领先的高 电压绝缘技术,完善的零电流谐振技术,使威思曼高压电源始终保持高稳定性、低纹波、低电磁干扰、体积小,损耗小,效率高,长寿命。威思曼高压电源价格有竞 争力,是OEM应用的理想选择。 威思曼高压电源有限公司是世界具有领导地位直流高压电源和一体化X射线源供应商,同时提供标准化产品和定制设计服务。产品广泛应用于医疗,工业,半导体,澳门永利网上娱乐,分析仪器,实验室以及海底光纤 等设备。集设计,生产和服务为一体的工厂分布于美国,英国,及中国等地,并且我们销售中心遍布于欧洲,北美洲以及亚洲,我们将竭诚为您服务!

加速电极高压发生器

加速电极高压发生器

  • 品牌: 西安威思曼
  • 型号: MRL
  • 产地:
  • 【型  号】 MRL 【功率(W)】 70W-210W 【最大输出电压(kV)】 ,1,1.5,2,2.5,3,5,7.5,10,15,20,25,30,40,50,60,70, 【在线订购】 【在线下载】 外观专利产品 威思曼MRL系列是高稳定精密高压电源模块,MRL系列模块电源提供正高压或负高压输出。MRL系列模块电源可以内、外、计算机精密测控,MRL系列模块电源保护有过压、过流、拉弧、澳门永利网上娱乐互锁等。 典型应用: 质谱仪 材料耐压测试(高压电阻耐压测试,高压电容耐压测试,绝缘材料耐压测试) 静电电场建立 塑料筛选 塑料排序 电容充电 高压闪络 农业育种 除静电 空气净化 工业,科学研究 可选功能: AC交流灯丝电源 USB 计算机USB2.0测控 规格说明: 输入:交直流可选,最大电流4A。 输出:1KV、3KV、4KV、5KV、6KV、7KV、8KV、9KV、10KV、15KV、20KV、30KV、40KV、50KV、60KV、70KV、80KV,100KV,130KV,160KV, 输出功率:1-200W任选 电压控制:电源内部:电源自带的多圈电位器可将输出电压设置在 0V 到最高电压之间。 外部遥控:外部 0 到 10V 控制信号可将输出从0V调到最高输出电压 电源内部:电源自带的多圈电位器可将电子束电流设置 在 0A 到最高电流。 外部遥控:外部 0 到 10V 控制信号可将电子束电流设置 在 0A 到最高电流。 电压调整率: 相对负载:0.01%(空载到额定负载) 相对输入:±0.01%(输入电压变化为±10%) 电流调整率: 相对负载:0.01%(空载到额定负载) 相对输入:±0.01%(输入电压变化±10%)。 纹波电压:输出额定电压前提条件下,纹波电压的峰峰值为最高输出电压的0.1%。更低纹波可以定制。 稳定度:开机半小时后每小时小于25ppm。 温度系数:每摄氏度≤25ppm 工作温度:0 到+50℃。 储存温度:-40 到+85℃。 湿度:20%到85%RH,无冷凝 电压电流指示:0到+10V,额定输出条件下精度为1%。 外形尺寸:正高压:长260mm,宽100mm,高170mm。 负高压:长260mm,宽100mm,高150mm。 冷却方式:自然冷却 连接器: 高压输出连接器:凹进的绝缘导管和探入的高压电缆通过金属连接器连接。高压电缆总长为1米。 输入输出连接器:DB15端子连接器,包含控制和显示信号。

DE-64直接电子探测相机

DE-64直接电子探测相机

  • 品牌: 美国Direct Electron
  • 型号: DE-64
  • 产地:美国
  • DE-64常用技术指标 适用的加速电压范围80 keV 1.25 MeV像素点大小6.5 μm像素阵列尺寸8192 × 8192 | 67.1 megapixels成像面积53 × 53 mm单电子信噪比(与加速电压有关) >50:1 @ 300 keV芯片设计>3T的CDS像素设计 | 芯片打薄 | 抗辐照设计连续帧率多达30fps,无bin的完整图像子阵列可>500 fps(取决于尺寸大小)数据采集模式 积分模式 | 电子计数模式 (可自由选择)第二芯片集成另外一个2k × 2k的CCD相机电子剂量测定装有法拉第杯,用于测定曝光的电子剂量芯片保护芯片上方装有快门进行物理保护 | 软件保护电脑系统配有SSD RAID存储阵列的相机专用高性能工作站数据收集&处理软件 常见收集:DE-IM(界面友好的全功能数据采集件)| μManager(免费,开源)原位录像数据收集:DE-StreamPix(连续进行)自动收集:Leginon | SerialEM | EMTools (TVIPS) | 也可使用 DE SDK“影片”式数据处理:DE图像处理软件(免费,开源,以Python为基础) | 定制软件:可提供软件开发包,集成客户软件要求

DE-16直接电子探测相机

DE-16直接电子探测相机

  • 品牌: 美国Direct Electron
  • 型号: DE-16
  • 产地:美国
  • DE-16常用技术指标 适用的加速电压范围80 keV 1.25 MeV像素点大小6.5 μm像素阵列尺寸4096 × 4096 | 16.8 megapixels成像面积27 × 27 mm单电子信噪比(与加速电压有关) >50:1 @ 300 keV芯片设计>3T的CDS像素设计 | 芯片打薄 | 抗辐照设计连续帧率多达60fps,无bin的完整图像多达120fps,2×bin的完整图像子阵列可达 1000+ fps(取决于尺寸大小)数据采集模式 积分模式 | 电子计数模式 (可自由选择)第二芯片集成另外一个2k × 2k的CCD相机电子剂量测定装有法拉第杯,用于测定曝光的电子剂量芯片保护芯片上方装有快门进行物理保护 | 软件保护电脑系统配有SSD RAID存储阵列的相机专用高性能工作站数据收集&处理软件 常见收集:DE-IM(界面友好的全功能数据采集件)| μManager(免费,开源)原位录像数据收集:DE-StreamPix(连续进行)自动收集:Leginon | SerialEM | EMTools (TVIPS) | 也可使用 DE SDK“影片”式数据处理:DE图像处理软件(免费,开源,以Python为基础) | 定制软件:可提供软件开发包,集成客户软件要求

DE-20直接电子探测相机

DE-20直接电子探测相机

  • 品牌: 美国Direct Electron
  • 型号: DE-20
  • 产地:美国
  • DE-20常用技术指标适用的加速电压范围 80 keV 1.25 MeV像素点大小 6.4 μm像素阵列尺寸 5120 × 3840 | 19.7 megapixels成像面积 33 × 25 mm单电子信噪比(与加速电压有关) >20:1 @ 200 keV芯片设计 >3T的CDS像素设计 | 芯片打薄 | 抗辐照设计连续帧率 多达32fps,无bin的完整图像 子阵列可达 960 fps(取决于尺寸大小)数据采集模式 积分模式 | 电子计数模式 (可自由选择)第二芯片 集成另外一个2k × 2k的CCD相机电子剂量测定 装有法拉第杯,用于测定曝光的电子剂量芯片保护 芯片上方装有快门进行物理保护 | 软件保护 电脑系统 配有SSD RAID存储阵列的相机专用高性能工作站

DE-12直接电子探测相机

DE-12直接电子探测相机

  • 品牌: 美国Direct Electron
  • 型号: DE-12
  • 产地:美国
  • DE-12常用技术指标适用的加速电压范围 80 keV 1.25 MeV像素点大小 6.0 μm像素阵列尺寸 4096 × 3072 | 12.6 megapixels成像面积 25 × 18 mm单电子信噪比(与加速电压有关) >20:1 @ 200 keV芯片设计 >3T的CDS像素设计 | 芯片打薄 | 抗辐照设计连续帧率 多达40fps,无bin的完整图像 多达75fps,2×bin的完整图像 子阵列可达 1000+ fps(取决于尺寸大小)数据采集模式 积分模式 | 电子计数模式 (可自由选择)第二芯片 集成另外一个2k × 2k的CCD相机电子剂量测定 装有法拉第杯,用于测定曝光的电子剂量芯片保护 芯片上方装有快门进行物理保护 | 软件保护 电脑系统 配有SSD RAID存储阵列的相机专用高性能工作站 积分模式拍摄下DDD的性能指标曲线DE-12 性能优势DDD相机具有高分辨率、高敏感度、高信噪比4k × 3k(1260万)像素是原位TEM、材料科学、带有能量过滤的高动态范围TEM研究的理想选择,并能进行长时间曝光的数据收集提供“Movie Mode”(有利于漂移校正),并可以记录和存储连续拍摄的图像数据开源软件包集成的法拉第杯,在成像之前判断电子剂量以保护芯片过度曝光,在成像时记录和监控每张照片的拍摄剂量。应用范围广,包括像cryo-EM、STEM、DTEM以及原位TEM都有很好的应用性价比高,提供周到及时的售后服务(苏州德锐特拥有软硬件工程师,服务于中国区的DE相机,并支持共同开发和技术合作)

纳米操纵手

纳米操纵手

  • 品牌: 韩国Seron
  • 型号: HYBRID-III
  • 产地:韩国
  • 仪器简介:世伦科技专业制造高性能钨灯丝扫描电镜,成功完成微纳米操作机械手和AIS扫描电镜的无缝连接,软硬件配合得当。 应用领域: ● 材料研究 ● 法医和犯罪研究 ● 微尺度精度控制 ● 高分辨分析 ● 显微摩擦学研究 ● 纳米建造 ● 半导体开发生产 技术参数:主要性能 1. 迪卡坐标的独立轴运动 2. 在扫描电镜景深方向,绝对垂直轴的配置, 3. 可选择的X Y轴位置传感器,重复精度好于60nm 4. 小型化的设计,适合任何样品室 5. 多种轻松校准工具的选择 6. 结实耐用, 7. 移动限位采用碰撞,不损失位置信息 8. 从纳米到厘米行程,纯压力驱动,没有外加电机。 9. 1nm的探针分辨率 10.至少1微米的定位精度 11.整个操纵器低至10nm的的减震装置 12. 行程可在5~50mm范围内选择 13. 模块化设计方便选择每个轴的尺寸和行程 14. 操纵器独立稳定,不影响样品的自由移动 15. “微手提钻头”方式处理的材料可达50g 16. 可为适合任何扫描电镜有效使用的操纵器提供足够的信息交换网络电子附件 17. 通过不同的探针技术来实现传感器和执行机构的可靠接触 18. 可选择包括电子器件和软件力反馈 19. 不同的显微镊子系列 20. 升级成晶圆探测系统 21. 可选择 显微拉力装置 22. 可选择模式识别的可视系统 23. 获得大量有价值的项目:带有适配器的微型传感器和执行机构 24. 可提供2-5自由度的高精度定位样品台,形成一个有机纳米操纵系统 25. 三个级别的软件控制:动态链接库,手动控制,自动控制主要特点:The Nano manipulators can easily be installed in any member of the series of AIS SEM. Within the microscope chamber the Nano manipulators are mounted on an additional flange on the door, pointing towards the sample stage. If the door is opened the manipulators come out in the same way as the sample stage. First assembling and testing steps can be performed in air, perhaps visualized by a long working distance optical microscope. After closing the door the combination of Nano manipulator and SEM leads to a powerful tool as a workbench. All manipulators are available as complete system, for example including : - Individual vacuum chamber design, assembly systems - Cable harness, feed-through - Electronics, software, (Force Feedback-) joysticks - Tip holders, different probe tips, including electrical support - Different approach electronics for all kind of probe tips and samples

徕卡冷冻断裂系统 Leica EM ACE900

徕卡冷冻断裂系统 Leica EM ACE900

  • 品牌: 徕卡显微系统
  • 型号: EM ACE900
  • 产地:奥地利
  • 玻璃化冷冻结构对环境影响极其敏感,需要对其加以保护以免形成假象。在最佳条件下制备用于详细图像评估的样品:在样品周围采取冷屏蔽措施,避免水分子在样品上冻结在整个过程中精确控制温度清洁的刀具 每次切片均使用干净的刀片,避免污染及时、迅速的电子束镀膜,捕获详细的表面信息在受保护的真空状态下转移到其他分析系统所有这些要求均可在一台仪器中实现 - Leica EM ACE900!为什么要进行冷冻断裂和冷冻蚀刻?冷冻断裂是一种将冷冻标本劈裂以露出其内部结构的技术。冷冻蚀刻是指让样品表面的冰在真空中升华,以便露出原本无法观察到的断裂面细节。它们均属最敏感的技术,可保留最微小的细节以用于TEM和冷冻SEM分析。为什么选择Leica EM ACE900?Leica EM ACE900是一款高端制样系统。在一台仪器中对样品完成冷冻断裂、冷冻蚀刻和电子束镀膜。通过旋转冷冻式载台,利用电子束进行高分辨率碳/金属复合镀膜,适用于任何TEM和SEM分析,可提供灵活的投影选择。通过用于样品和刀具转移的真空锁以及控制每个电子束源的闸阀,仪器可始终保持真空状态,确保快速、清洁的工作条件。本仪器定会成为您重要的EM样品处理工具。研究潜力无限Leica EM ACE900冷冻断裂系统采用重新设计的冷却概念、切片机、屏蔽、电子束、真空锁,并且还可连接Leica EM VCT500,以便在整个冷冻SEM工作流程中对样品加以保护。内置的现代用户界面让操作不再有任何障碍。开创新视野生物 :细胞膜、细菌、细胞器、蛋白质行业 :化妆品、食品、药物材料研究 :乳胶、高分子聚合物、边界层、纳米结构、液晶对样品进行冷冻断裂以用于TEM(复型技术)或冷冻SEM(通过Leica EM VCT500转移)。高再现性、妥善的标本保护自动与手动操作(断裂)的完美结合让制备具有极高的再现性和灵活性。所有相关参数都会被记录。大型冷冻屏蔽内壁、样品交换舱、优化的样品转移和冷冻切片机将确保为样品带来全方位的保护。连接性将Leica EM VCT500真空冷冻转移系统与Leica EM ACE900系统对接即可!Leica EM VCT500底座可直接与Leica EM ACE900相连。通过Leica EM VCT500穿梭工具,标本可在完美条件下与仪器实现来回转移,以便在冷冻SEM中进行最终检查。仅仅数小时即可获得最高分辨率的图像。快速操作电子束源、样品架和刀具都有相应的真空锁,以便快速处理样品无需花时间等待达到真空状态。环境责任我们的电子显微镜样品制备系统不仅符合最高的技术和人体工学要求,而且还非常注重减少环境影响。这对Leica EM ACE900意味着什么冷却过程中的LN2消耗量相比之前的仪器降低了约87%。每小时冷冻工作的LN2消耗量相比之前的仪器下降了约58%。达到操作要求的冷却时间相比之前的仪器缩短了约33%。更小巧的仪器外形让包装、物流与装运成本得以降低。已实施环境管理体系DIN EN ISO 14001。

徕卡真空冷冻传输系统 Leica EM VCT500

徕卡真空冷冻传输系统 Leica EM VCT500

  • 品牌: 徕卡显微系统
  • 型号: EM VCT500
  • 产地:奥地利
  • 使用徕卡EM VCT500,你可以在冷冻或常温,真空或保护气体条件下传输样品。徕卡EM VCT500始终连接连接您的工作流程系统凭借主动样品冷却和全新的阀门概念优化您的样品传输对接后在工作流程中随时监控样品的温度和真空度为什么需要真空冷冻传输?样品在不同的制备和分析系统之间传输时必须得到保护,以免保护不足导致样品受到污染和形成冰晶。连接性今时今日,随时随地连接是理所当然的需求徕卡显微系统自然也开始着手实现 EM 样品制备系统的连接性能,保证在到进入分析系统之前的整个工作流程中全程保护您的样品。Leica EM 样品制备工作流程Leica EM ICE 高压冷冻仪Leica EM VCM 冷冻工作站Leica EM ACE600高真空镀膜仪 搭载 Leica EM VCT500Leica EM VCT500 真空冷冻传输系统适用于多种分析系统灵活连接选择您的样品架我们为几乎所有应用提供标准和定制样品架:提供冻结断裂,双复型技术,冷冻干燥等等的标准样品架徕卡公司可以提供定制样品架,满足您特定应用中对样品架的需求。您的销售代表会告知您相关流程。灵活连接您的分析系统每台徕卡 EM VCT500 都是根据您的要求特别定制的仪器。徕卡销售团队、研发部门以及您的分析系统供应商进行了仔细评估,以确保您的应用和工作流过程完全一致。

徕卡高压冷冻仪 Leica EM ICE

徕卡高压冷冻仪 Leica EM ICE

  • 品牌: 徕卡显微系统
  • 型号: EM ICE
  • 产地:奥地利
  • 高压冷冻能够捕捉精细结构和细胞动力学的错综变化。高压冷冻结合光刺激是您发现奥妙的平台。同步到毫秒的冻结和刺激能够冻结您最感兴趣的那一刻以纳米尺度和毫秒时间精度冻结和解析高动态过程在高压下冷冻固定您的含水样品,并发现世界的秘密为什么采用冷冻固定?目前冷冻固定是固化细胞成分而不导致显著结构变化的唯一途径。为什么采用光刺激?同步光刺激和高压冷冻让您能够以纳米级的分辨率和毫秒级的精度来查看高动态过程或光敏样本的结构变化。这将为生命科学和工业领域的研究人员带来新的可能性。将光刺激施加在任何光敏化合物上,例如洗剂、化妆品或食品以及光活化的样本(如蛋白质或各种生物样本)推动我们对高动态过程(如突触神经传递)的理解为什么采用徕卡 EM ICE?因为它是唯一能够以毫秒尺度冻结动态现象的工具因为它是唯一完全集成了光刺激的高压冷冻仪因为它的功能为生命科学和工业领域的研究人员带来新的可能性因为它是唯一一款允许冷冻 9 个后续样本的高压冷冻仪因为它是唯一一款能够为您提供最舒适操作的高压冷冻仪选择徕卡 EM ICE;因为它是您在您的领域找到颠覆性发现的平台。新工具,新视角。五种颜色蓝光、紫外光、绿光、红光和琥珀光:您可以使用不同波长的 5 种 LED 模块来激发您的样本。光刺激的完全整合造就了光脉冲之间的精确关系(即从刺激到冻结时间)只需一次点击即可将 LED 模块连接到仪器。每个模块都具有不同的波长,并自动由软件识别,记录在日志文件中可用的光模块和波长蓝光:450Lambda紫外光:380 Lambda绿光:523 Lambda红光:660 Lambda琥珀光:597 Lambda专注于您的样本您只需一步操作即可在徕卡 EM ICE 中加载样本。当您关上装载台的盖子时,就会触发完美对齐的卡盒组件和冷冻过程不需要额外的操作:加样和冷冻过程完全自动化在实际冻结前一秒钟您都可以观察和处理样本提高效率使用徕卡您可以快速、高效地工作。从冷冻循环中恢复只需要一分钟 - 无需等待样本储存杜瓦以 LN自动重新填充 无需维护 使用 3 个可容纳多达 3 个不同样本的位置执行多达 9 次连续冷冻循选择每个位置的样本数量,可编程旋转并区分样本和条件LN杜瓦瓶自动排干无需操作灵活并可随时升级徕卡 EM ICE 为您带来您所需要的研究灵活性。定义您的显微镜配置徕卡 S6 E或徕卡 M80和环境控制(装载站、工作台和室内温度控制)随时升级仪器成光刺激模式可随时在您需要的时候升级环境设置(工作台加热和/或环境室)所有的升级(光刺激模块和环境设置)可以直接由徕卡服务团队在您实验室完成。您并不需要将仪器返回工厂。环境责任我们的电子显微镜样品制备系统不仅符合最高的技术和人体工学的需求,而且其设计对环境影响最小。每天的 LN消耗量(包括设备冷却)仅为 30 升,这比以前的机型大约少了 65%冷却过程中 LN的消耗量比之前的机型减少了大约 70%压力和冷却同步不需要使用酒精或其它液体徕卡 EM ICE 采用可持续包装:多次使用包装箱,内含在工厂中运输以及送货给客户的过程中使用的斜坡道。该包装于 2014 年 11 月被授予“智能包装”奥地利国家奖。我们采取负责任的行动,并在 2015 年获得了DIN EN ISO 14001 环境管理认证。最后,同样重要的是开发徕卡 EM ICE 的团队在 EM 样本制备方面拥有合计 145 年的经验,他们团结合作,共享一个愿景:为您的工作提供完美的仪器!

徕卡冷冻光电联用 Leica EM Cryo CLEM

徕卡冷冻光电联用 Leica EM Cryo CLEM

  • 品牌: 徕卡显微系统
  • 型号: EM Cryo CLEM
  • 产地:奥地利
  • 革新性的 Leica Cryo CLEM 专用于使用了Leica DM6000 FS革新性的 Leica Cryo CLEM 专用于使用了 Leica DM6000 FS 的宽场光学显微学中,其代表了光学和电子低温显微镜中最先进的冰冻样本分析解决方案。为了方便使用,可直接将无污染的样本从冰冻样本制备设备中传送过来,低温传送梭停靠在安装于显微镜上的 Leica EM Cryo 载物台旁。短工作距离(< 0.28 mm)的高分辨率 Leica Cryo CLEM 物镜确保了在光学显微镜中快速特异性地定位目标结构,并引导在电子显微镜中快速而准确地确定感兴趣的区域。为您带来的优势值得信赖的可靠性将您的冰冻样本澳门永利网上娱乐转移并加载到低温载物台上 - 低温传送梭可使您的样本保持无霜,以创造出高质量的光学显微镜图像。找到您想寻找的目标我们开发了世界上第一款低温物镜,据此您可简便地定位目标结构。针对高分辨率的短工作距离可创造出高质量的漂亮图像 - 您自己看看!节省时间您会发现使用样本传送和加载系统会非常快速地加载和卸载样本。此外,由于样本条件十分出色,目标结构可准确定位,因此您在操作低温电子显微镜并进行分析时所需的时间更少。直观地工作让您的工作更加简便是我们开发解决方案时的一个首要目标。因此我们用传感器控制样品台温度,我们让样品传输和装载系统变得如此直观。以上价格区间单位为美元

徕卡多功能离子减薄仪 Leica EM RES102

徕卡多功能离子减薄仪 Leica EM RES102

  • 品牌: 徕卡显微系统
  • 型号: EM RES102
  • 产地:奥地利
  • Leica EM RES102 通过离子枪激发获得离子束,以一定入射角度对样品进行轰击,以去除样品表面原子,从而实现对样品的离子束加工。Leica EM RES102主要功能为:对无机薄片样品进行离子减薄,使得薄片样品可被透射电子穿过,从而适宜TEM透射电子显微镜观察;对无机块状样品进行离子束抛光、离子束刻蚀,样品表面离子清洗及斜坡切割,便于SEM扫描电子显微镜观察样品内部结构信息。您的优势主要技术参数: 具有2把离子枪,离子束能量为0.8keV-10keV,相对位置,可分别±45°倾斜,样品台倾斜角度-120°至 210°,离子束加工角度0°至90°,样品平面摆动角度<360°,垂直摆动距离±5mm。实际操作参数根据具体应用需要选择(系统备有参考参数,也可自行设置参数并存储) 可选配样品台:TEM样品台(?3.0mm或?2.3mm),FIB样品清洗台,SEM样品台,斜坡切割样品台(对样品35°或90°斜坡切割)等 SEM样品台可容纳最大样品尺寸:直径25mm,高度12mm全无油真空系统,样品室带有预抽室,保证样品交换时间<1分钟全电脑控制,触摸屏操作界面,内置视频观察系统,可实时观察样品处理过程

徕卡精研一体机 Leica EM TXP

徕卡精研一体机 Leica EM TXP

  • 品牌: 徕卡显微系统
  • 型号: EM TXP
  • 产地:奥地利
  • Leica EM TXP 是一款多功能机械修块研磨抛光机,适用于对目标定位,进行铣削,切割,冲钻,研磨,修块及抛光等。特别适合于对样品微小目标的精细定位、切割等加工。其主要功能为:可用于光镜观察前样品切割、机械抛光等制备;可用于EM TIC 3X / EMUC7样品前制备,对样品进行机械修块;还可用于EM RES101样品前制备,获得3mm样品圆片(两面平行,厚度可达1μm量级)。主要技术参数:工具前进步进:100μm,10μm,1μm及0.5μm可选。显示进程,并具有快进和撤回功能 工具轴承转速:300~ 20000rpm可调 具有自动进程倒计数,自动时间倒计时功能,具有自动应力反馈功能 样品处理过程可由蠕动泵自动泵取冷却液/研磨液,并可接吸尘器 带有体视镜观察系统,LED环形照明,4分格,带有坐标尺,可接摄像头 可选工具: 切割锯片,铣刀,抛光片,3mm 空心钻

徕卡高真空镀膜仪 Leica EM ACE600

徕卡高真空镀膜仪 Leica EM ACE600

  • 品牌: 徕卡显微系统
  • 型号: EM ACE600
  • 产地:奥地利
  • Leica EM ACE600 是一款高真空镀膜仪,真空泵采用隔膜泵和涡轮分子泵,无油真空系统,真空度可达2×10-6mbar。镀膜细腻均匀。内置石英膜厚检测器,可精确控制镀膜厚度。全自动电脑控制,自动完成抽真空,镀膜,放气等全过程,一键操作。采用当下最流行的触摸屏控制,简单方便。仪器可选离子溅射镀金属膜,满足高分辨场发射扫描电镜(FESEM)需求。可选碳丝蒸发镀碳膜,用于X-射线能谱及波谱分析,或者TEM铜网镀碳膜。还可以选择电子束蒸发方式镀膜,获得极其细腻的金属膜与碳膜,可用于DNA投影等特殊用途。主要技术参数: 可任选离子溅射模式,碳丝蒸发镀碳模式,碳棒(热阻)蒸发模式,电子束蒸发模式,双溅射模式,溅射-碳丝模式,溅射-碳棒模式,溅射-电子束模式,双电子束模式,可兼容EM VCT100冷冻传输系统,可选辉光放电(用于网格表面亲水化) 专利设计脉冲式碳丝蒸发方式,可精确控制碳膜厚度 内置石英膜厚检测器,精确控制镀膜厚度,精度达0.1nm 全自动程序控制,自动完成抽真空,镀膜,放气等过程 触摸屏控制,简单方便 采用隔膜泵+涡轮分子泵,无油真空系统,真空度2×10-6mbar 溅射电流:0-150mA可调 方形样品仓专利设计,样品仓尺寸:200mm(宽)×150mm(深)×195mm(高) 样品台内置旋转,工作距离调节范围:30mm-100mm

徕卡低真空镀膜仪 Leica EM ACE200

徕卡低真空镀膜仪 Leica EM ACE200

  • 品牌: 徕卡显微系统
  • 型号: EM ACE200
  • 产地:奥地利
  • 样品进行扫描电镜观察前,通常需要对其表面镀一层金属膜,以便减少观察时产生的荷电,并增强二次电子或背散射电子信号,获得更好的信噪比。Leica EM ACE200是一款低真空镀膜仪,可以选择离子溅射镀金属膜或者碳丝蒸发镀碳膜功能,或者同时具有这两种功能。能够满足日常SEM需求,也可用于X-射线能谱及波谱分析,或者TEM铜网镀碳膜。全自动电脑控制,自动完成抽真空,镀膜,放气等全过程,一键操作。采用当下非常流行的触摸屏控制,简单方便。主要技术参数: 可任选离子溅射模式、碳丝蒸发镀碳模式,或者双模式,可选辉光放电(用于网格表面亲水化) 专利设计脉冲式碳丝蒸发方式,可精确控制碳膜厚度 可选石英膜厚检测器,精确控制镀膜厚度,精度达0.1nm 全自动程序控制,自动完成抽真空,镀膜,放气等过程 触摸屏控制,简单方便 真空度7×10-3mbar 溅射电流:0-150mA可调 方形样品仓专利设计,样品仓尺寸:140mm(宽)×145mm(深)×150mm(高) 工作距离调节范围:30mm-100mm

徕卡自动临界点干燥仪 Leica EM CPD300

徕卡自动临界点干燥仪 Leica EM CPD300

  • 品牌: 徕卡显微系统
  • 型号: EM CPD300
  • 产地:奥地利
  • Leica EM CPD300 是一款全自动临界点干燥仪,也是全球第一款全自动临界点干燥仪。临界点干燥法一直是生物样品干燥的常用方法,用于扫描电镜观察。液体转化成气体产生的巨大表面张力会破坏样品表面精细结构,而使用临界点干燥法则可以保存这些精细结构。在过去,临界点干燥是一个耗时的过程,太多手动操作步骤,很难获得最好的结果,且结果重复性不高。如今,CPD300的出现改变了这一现状。主要技术参数: 全自动,省时省力 电脑精确控制放气过程,干燥效果好,无变形,重复性高 多种样品篮可供选择,灵活方便 样品仓175ml,产出量大,高效 独特填充物设计,减少CO2消耗 触摸屏控制,简单易学 多重澳门永利网上娱乐设定,内置废液分离机制,澳门永利网上娱乐环保

徕卡真空冷冻传输系统 Leica EM VCT100

徕卡真空冷冻传输系统 Leica EM VCT100

  • 品牌: 徕卡显微系统
  • 型号: EM VCT100
  • 产地:奥地利
  • 冷冻扫描电镜近年来迅猛发展,成为原位快速观察样品的不二选择。Leica EM VCT100冷冻传输系统提供扫描电镜冷台的同时,提供一个开放的接口,和一个真空传输样品杆,方便连接徕卡其他制样设备,如: 配合Leica EM ACE600 用于高精度冷冻断裂/蚀刻/镀膜,配合Leica EM BAF060 用于冷冻断裂/蚀刻/喷涂/干燥,配合LeicaEM UC7/FC7用于冷冻超薄切片,兼容Leica EM PACT2/HPM100 高压冷冻仪特制样品托,提供冷冻扫描电镜整体解决方案,满足用户任何应用领域。主要技术参数: 冷灵活多变,可配合各种Leica制样设备 独特分体式设计,灵活,高效,不引入外部震动 分辨率高,冷台使用镀金铜箔导热,无震动,几乎不影响电镜原有分辨率 真空传输,无冰晶污染

徕卡冷冻断裂系统 Leica EM BAF060

徕卡冷冻断裂系统 Leica EM BAF060

  • 品牌: 徕卡显微系统
  • 型号: EM BAF060
  • 产地:奥地利
  • 冷冻断裂/蚀刻技术是一种TEM制样方法,对冷冻后的样品进行断裂,暴露出其内部结构,也可以对断裂面进行蚀刻,暴露出断裂面更多内部信息,在冷冻状态下进行金属/碳混合镀膜,得到一个表面结构的复型,利用TEM观察。利用冷冻断裂的一些最新技术,例如冷冻复型免疫标记技术(FRIL),可以深入揭示膜蛋白在细胞活动中的作用。Leica EM BAF060是一套高端冷冻断裂/蚀刻系统,也可以与 Leica EM VCT100冷冻传输系统配合使用,利用扫描电镜直接观察冷冻断裂/蚀刻的样品。主要技术参数: 冷冻断裂、冷冻蚀刻、冷冻干燥、冷冻喷涂,多功能于一体 无油真空系统,低温条件下极限真空1×10-7mbar 送样口具有预抽室作为缓冲,进样无需破真空 电子束蒸发镀膜,电子枪1,2角度0-90°可调 样品台可旋转,可进行小角度旋转投影 内置石英膜厚检测器,精确控制膜厚 兼容VCT100冷冻传输系统

徕卡冷冻替代仪 Leica EM AFS2

徕卡冷冻替代仪 Leica EM AFS2

  • 品牌: 徕卡显微系统
  • 型号: EM AFS2
  • 产地:奥地利
  • Leica EM AFS2 是一款冷冻替代仪,可以用于冷冻替代技术,梯度变温技术(PLT技术),以及后续树脂渗透和包埋聚合。冷冻替代技术是指,利用甲醇、丙酮等有机溶剂在低温条件下替代样品中所含水分,这通常是高压冷冻固定的后续步骤。梯度变温技术(PLT)则可以对常规化学固定样品进行脱水及树脂渗透。最后,Leica EMAFS2 利用紫外线进行聚合,样品聚合硬化后可进行超薄切片和免疫标记。主要技术参数: 温度范围:-140°C ~ +70°C可控 液氮容积35L,一次充满可维持5天运行,设有独立液氮注入口 “Deep Freeze”功能允许在低于-140°C进行样品转移, “TF”功能可有效排除湿气和氧气的影响 LED照明,LED紫外灯 灵活,各种包埋系统可供选择,兼容不同应用范围 彩色屏幕,图形化显示,鼠标控制,简单易学,可存储10组用户,每个用户可存储99组程序 澳门永利网上娱乐,内置排风系统,有毒有害气体可排出室外 可选Leica EM FSP冷冻替代处理器是试剂自动分配系统,安装于AFS2上,可自动完成试剂稀释,更换, 分配功能,并内置LED紫外灯,自动完成紫外聚合过程

徕卡自动载网投入冷冻仪  Leica EM GP

徕卡自动载网投入冷冻仪 Leica EM GP

  • 品牌: 徕卡显微系统
  • 型号: EM GP
  • 产地:奥地利
  • Leica EM GP 是一款载网插入冷冻仪,专门为冷冻透射电镜(Cryo-TEM)制备蛋白、病毒等悬液样品,用于后续三维冷冻电镜分析。载网冷冻技术是指,在电镜载网(有微孔碳膜)上滴加一滴样品悬液,用滤纸吸去多余液体,将载网插入到冷冻剂(如液态乙烷)中,样品被快速冷冻固定,在碳膜微孔上形成玻璃化冰层薄膜。冷冻含水样品随后进入冷冻透射电镜进行观察,通过三维重构技术,最终得到生物大分子的三维结构信息。主要技术参数: 精确控制温度,范围:+4 ~ +60°C 超声波加湿,精确控制湿度,范围:大气湿度~99% 红外线传感器精确控制滤纸,样品分布均匀,不破坏碳膜,可获得最大面积载网可用范围 精确控制乙烷温度,温控范围:-100°C ~-196°C 触屏控制,简单易学,可存储10组程序

徕卡自增压快速冷冻仪 Leica EM SPF

徕卡自增压快速冷冻仪 Leica EM SPF

  • 品牌: 徕卡显微系统
  • 型号: EM SPF
  • 产地:奥地利
  • Leica EM SPF 是一款入门级高压冷冻仪,专门针对细胞、细菌、病毒、线虫等悬液样品设计。其增压方式为自增压,是利用水结冰过程中体积增大的特性。封闭的铜管内装有悬液样品,当部分水结冰之后,导致管道内压力升高,达到高压冷冻的目的。独特的U形管设计,有效避免了铜管爆裂泻压,保证U形管弧形区段样品有效固定。Leica EM SPF采用触屏操作,图形化参数控制,简单易用,有不同规格铜管可供选择,自带铜管弯曲,剪切,存放工具,满足用户不同应用需求。主要技术参数: 增压原理:自增压(水结冰时体积膨胀) 二次冷冻剂:液态乙烷/丙烷 二次冷冻剂温度:最低-187°C 液氮消耗:待机:0.8L/h,正常操作:1.5L/h 样品管直径:0.8mm,1.2mm 触摸屏控制,简单易用

徕卡高压冷冻仪 Leica EM HPM100

徕卡高压冷冻仪 Leica EM HPM100

  • 品牌: 徕卡显微系统
  • 型号: EM HPM100
  • 产地:奥地利
  • 相对于化学固定,冷冻固定在毫秒级时间内完成固定过程,时间分辨率无损失,能够捕捉细胞生理活动的瞬间,最大限度的保存蛋白质、酶、抗原的原始结构和活性,保持膜系统原有的渗透性,且能够固定可溶性小分子和离子。高压冷冻固定是最好的冷冻固定方法。在约2100个大气压下,水的冰点下降至约-20°C,并且冰晶形成和生长速度大大降低,从而实现快速冷冻固定而不形成冰晶,有效固定深度可达200微米。LeicaEM HPM100 能够对超大样品进行高压冷冻固定(最大5mm×0.6mm厚),多种样品夹系统可供选择,可以满足任何应用领域。主要技术参数: 有效冷冻固定厚度达200μm 冷冻压力2100bar 液氮消耗量低,开机至主机冷却稳定需20L液氮,每次冷冻仅需50 ml液氮,待机需5L/h 内置体视显微镜和工作台,方便操作 3mm、6mm平扁样品系统,3mm、4.6mm冷冻断裂样品系统,活检样品系统,悬液(管)样品系统,3mm、6mm光镜/电镜联用系统可供选择,能够对超大样品进行高压冷冻固定 触屏控制,简单易用,冷冻完成后温度/压力曲线显示,可外接USB设备以存储冷冻数据

徕卡高压冷冻仪 Leica EM PACT2

徕卡高压冷冻仪 Leica EM PACT2

  • 品牌: 徕卡显微系统
  • 型号: EM PACT2
  • 产地:奥地利
  • 相对于化学固定,冷冻固定在毫秒级时间内完成固定过程,时间分辨率无损失,能够捕捉细胞生理活动的瞬间,最大限度的保存蛋白质、酶、抗原的原始结构和活性,保持膜系统原有的渗透性,且能够固定可溶性小分子和离子。高压冷冻固定是最好的冷冻固定方法。在约2100个大气压下,水的冰点下降至约-20°C,并且冰晶形成和生长速度大大降低,从而实现快速冷冻固定而不形成冰晶,有效固定深度可达200微米。Leica EM PACT2 专为分子和细胞生物学家设计,满足细胞“活体”结构和功能研究的需求。利用快速传输系统Leica EM RTS还可以进行光镜/电镜关联实验,只需不到5秒钟,即可对光镜观察活体样品进行固定。主要技术参数: 有效冷冻固定厚度达200μm 冷冻压力2100bar 液氮消耗量低,开机至主机冷却稳定需30L液氮,每次冷冻需100 ml液氮,待机仅需400ml/h 快速,可选配备RTS快速传输系统,,装载样品夹仅需不到5秒,完美配合光镜/电镜联用技术 两次冷冻间隔时间短,30秒即可完成一次循环,最大每小时可冷冻120个样品 平扁样品系统,冷冻断裂样品系统,活检样品系统,悬液(管)样品系统,活细胞培养光镜/电镜联用系统可供选择 触屏控制,简单易用,冷冻完成后600ms 温度/压力曲线显示,内置存储,可存储8000组冷冻数据,数据可通过USB导出

徕卡多功能修块机 Leica EM RAPID

徕卡多功能修块机 Leica EM RAPID

  • 品牌: 徕卡显微系统
  • 型号: EM RAPID
  • 产地:奥地利
  • Leica EM RAPID功能修块机主要用于对药片或药丸进行铣磨,以便后续的药物成分分布研究。使用特制碳化钨或者钻石铣刀,去除药片表面包衣,且不会产生拖尾效应。主要技术参数: 铣刀0.5,1,10,100μm步进可调 铣刀转速300-20000rpm可调 长寿命LED环形照明 LCD参数显示,精确控制面板

徕卡修块机 Leica EM TRIM2

徕卡修块机 Leica EM TRIM2

  • 品牌: 徕卡显微系统
  • 型号: EM TRIM2
  • 产地:奥地利
  • Leica EM TRIM2是应用于电镜树脂样品块的一款修块机。使用刮胡刀片徒手修块经常损伤样品或划伤手指,且很难得到标准的金字塔形。如果使用Leica EM TRIM2只需短短60秒,就可以修出一个完美的金字塔!主要技术参数: 澳门永利网上娱乐,快速,高效,方便 铣刀1μm步进 体视镜正面观察 长寿命LED环形照明

徕卡超薄切片自动染色机 Leica EM AC20

徕卡超薄切片自动染色机 Leica EM AC20

  • 品牌: 徕卡显微系统
  • 型号: EM AC20
  • 产地:奥地利
  • 生物样品的主要元素组成是碳、氢、氧,原子序数很低,因此在电镜观察之前一般要进行重金属盐染色,用以加强其反差。一般使用醋酸双氧铀和柠檬酸铅双重染色法。Leica EM AC20是一台电镜载网自动染色机。能够自动进行双重染色,简单高效,非常适合替代手工染色。主要技术参数: 20枚载网/次 试剂消耗:约6ml / 次(铀液+铅液),取决于程序设置 程序数量:染色程序:10个,清洗程序:2个 温度调节:+20°C - +60°C 封闭式染色,无污染 废液分离收集机制

徕卡自动组织处理机 Leica EM TP

徕卡自动组织处理机 Leica EM TP

  • 品牌: 徕卡显微系统
  • 型号: EM TP
  • 产地:奥地利
  • 生物样品在进行电镜观察之前,需要经过一系列复杂的样品处理过程,主要包括固定,脱水,包埋,聚合,修块,超薄切片,染色等一系列必须步骤。Leica EM TP是一台小型的多功能型仪器,既可用于电镜样品也可用于光镜样品的组织处理和树脂渗透,能够满足实验室日常组织处理工作的所有需求。主要技术参数: 样本容量:三种配套可选,电镜配套:56个/次,光镜配套:16个/次,电镜三样品篮系统:168个/次 试剂消耗:电镜配套:每步10ml试剂,光镜配套:每步50ml试剂,电镜三样品篮系统:每步50ml试剂 温度控制范围:+4 - +60°C,电镜配套还具有预热预冷功能 试剂管振幅:6mm,频率:0,0.25,0.5,1,2,3Hz可调 电脑程序化控制,LCD显示,20个字母×4行。 可设置延时运行 最大可存储99组程序,可存储试剂列表200个

徕卡全自动微波组织处理机  Leica EM AMW

徕卡全自动微波组织处理机 Leica EM AMW

  • 品牌: 徕卡显微系统
  • 型号: EM AMW
  • 产地:奥地利
  • 生物样品在进行电镜观察之前,需要经过一系列复杂的样品处理过程,主要包括固定,脱水,包埋,聚合,修块,超薄切片,染色等一系列必须步骤。Leica EM AMW 是一台全自动微波组织处理仪,可以完成从固定,脱水到包埋,聚合全套的样品处理过程。与传统手工方法相比,原来需要数天完成的人工手动操作步骤,可在数小时内由仪器自动完成,极大的提高了效率,特别适合科研和病理诊断。主要技术参数: 微波参数:单模定向微波设计,能量均匀,效率高*微波频率:2450MHz微波发射模式:持续发射,脉冲式发射,线性增强式发射,可编程微波功率:0-30W,连续可调,1W步进 样本容量:组织处理:20个/次,聚合:20个/次 试剂消耗:每步10ml试剂,0.5ml/样品 试剂管振幅:4mm 电脑程序化控制,重复性好,6.5″彩屏显示,鼠标操作,最大可存储99组程序,支持USB程序导出* 双风扇设计,微波腔室与基本腔室由两个独立风扇分别排风,排风量:3 L/s

徕卡玻璃制刀机  Leica EM KMR3

徕卡玻璃制刀机 Leica EM KMR3

  • 品牌: 徕卡显微系统
  • 型号: EM KMR3
  • 产地:奥地利
  • 自从1962年生产出全世界第一台玻璃制刀机,徕卡显微系统一直致力于技术革新,制作高精度玻璃刀。平衡断裂法的核心在于,玻璃条划痕两侧所承担的重量和压力精确相等,并且,玻璃条与其下方支撑的接触面越小越好,Leica EM KMR3 严格按照这一理论设计,仪器机械部件精确平衡配重,高精度不锈钢半球支撑玻璃条下方,确保玻璃条100%平衡断裂,制作出高品质的刀锋。仪器采用人体工学设计,使用简单舒适。主要技术参数: 采用平衡断裂法原理断裂* 碳化钨切割滚轮,持久耐用,并自动复位* 切割压力可方便调节,刻度显示,5档连续可调 切割角度:45° 断裂压力旋钮调节,压力值刻度显示,并自动复位* 制刀台抽屉式设计,方便取刀,无需其他工具* 兼容玻璃条规格:6.4 mm,8 mm,10 mm 高度重复性,制作出高品质玻璃刀

徕卡冷冻超薄切片系统 Leica EM FC7

徕卡冷冻超薄切片系统 Leica EM FC7

  • 品牌: 徕卡显微系统
  • 型号: EM FC7
  • 产地:奥地利
  • 只需数分钟,即可将Leica EM FC7冷冻超薄切片附件装载到 Leica EM UC7上,一体化的冷冻超薄切片机拥有诸多特性,为使用者提供诸多便利。可选的静电发生器和微操作器附件,实现高效的冷冻超薄切片,特别适用于CEMOVIS技术和Tokuyasu技术。主要技术参数: 使用UC7主机控制器,一体化控制,无需另配单独控制器* 工作温度范围:-15°C ~ -185°C,烘烤温度110°C,温度显示单位°F,°C,K 可选* 三种工作模式:标准模式,高气流模式,槽液切片模式* 液氮罐容量25L,5档液氮量显示,液氮消耗约3L/h,标配25L液氮灌可满足一天工作需要 LED冷冻箱体内部照明,亮度2150 lx(在刀锋附近)* 冷冻刀架+/-22°中心旋转,间隙角3°,6°,9°刻度指示,可使用6-10mm切片刀 冷冻样品夹可做360° 旋转,90° 对齐刻度 可选配放电模式或充放电模式静电发生器,无需外置控制器* 可选配微操作器,精确控制载网位置,适合新手*

徕卡超薄切片机 Leica EM UC7

徕卡超薄切片机 Leica EM UC7

  • 品牌: 徕卡显微系统
  • 型号: EM UC7
  • 产地:奥地利
  • Leica EM UC7超薄切片机可以进行半薄和超薄切片,为光学显微镜,透射电子显微镜,扫描电子显微镜和原子力显微镜提供完美的切片。符合人体工学的外观设计,内部精密机械设计,直观的触摸屏控制面板设计,造就了高品质的Leica EM UC7超薄切片机。主要技术参数: 重力切片设计,无震动* 自动马达驱动刀台,N-S移动范围:10mm,W-E移动范围:25mm* 4方向长寿命高亮度LED照明,亮度可调* 体视显微镜放大倍率:S6E:10-64x可调,M80:9.6-77x可调 刀架:360°可旋转自锁刀架,+/-30°分隔刻度,间隙角调节范围:-2° ~ 15°,可使用6 ~12mm切片刀,兼容任何品牌钻石刀 弧形样品夹:样品可做360°平面旋转,+/- 22°中心旋转 全触屏控制面板,10.4″和7″可供选择* 10.4″控制面板具备自动修块功能,E-W方向距离测量功能,钻石刀磨损信息管理功能,用户识别系统,方便多用户共享仪器,并能够存储多达100组用户设定

电解双喷仪

电解双喷仪

  • 品牌: 美国FISCHIONE
  • 型号: 110
  • 产地:美国
  • 主要特点:The Automatic Twin-Jet Electropolisher is an apparatus for the electrolytic thinning of TEM specimens. The twin-jet technique simultaneously polishes both sides of the specimen, creating electron transparent specimens within a few minutes. A photodetector with control circuitry terminates polishing at the first sign of light penetration through the specimen, thus producing a specimen with optimal electron transparent area. Electrolyte flow and polishing voltage are controlled by Automatic Power Control. 应用于透射电镜样品的电解减薄,其强大的双喷技术能够在数分钟内同时抛光样品两面,产生适于电子穿透的薄区.光探头控制灵敏,使得在穿孔的当时停止减薄过程,避免继续减薄损伤薄区.电流电压由自动控制电源连续控制.

高精度凹坑仪

高精度凹坑仪

  • 品牌: 美国FISCHIONE
  • 型号: 200
  • 产地:美国
  • 技术参数: Independent speed adjustment for specimen and wheel rotation 样品和砂轮分别转速可调 Automatic zeroing process 自动零位调整 A 40X optical microscope 40倍光学显微镜 Automatic termination 减薄到设定厚度时自动终止 Continuous readout of specimen thickness 样品厚度连续可读 Grinding wheels provided in stainless steel, phosphor bronze, and micarta 提供不锈钢,铜,木质等砂轮 208mmW x 165mmH x 343mmD 16KG 110/220 VAC, 50/60Hz 375W主要特点:The Model 200 Dimpling Grinder is a mechanical thinning instrument designed for the reproducible preparation of quality TEM specimens. The grinding control mechanism predetermines the rate at which material is removed, while microprocessor-based control circuitry automatically terminates the grinding process when a desired specimen thickness is achieved. The Model 200 features continuous specimen thickness monitoring on an alphanumeric display with an accuracy of better than one micron. A 40X optical microscope facilitates precise specimen positioning as well as in-situ specimen observation. The specimen is illuminated by both transmitted and reflected light. 把超声切割后的样品磨出低角度大面积凹坑.数字式的控制系统可实时显示样品的厚度精度达到1um.砂轮及样品的旋转分别控制,程序控制减薄到设定厚度时自动停止.提供一个40倍的放大镜可用于观察透射光及反射光样品.

离子减薄仪

离子减薄仪

  • 品牌: 美国FISCHIONE
  • 型号: 1050
  • 产地:美国
  • 仪器简介: 一、1050型离子减薄仪性能概述 For many of today’s advanced materials, analysis by transmission electron microscopy (TEM) is the best technique for studying material structure and properties. Fischione Model 1050 TEM Mill is an excellent tool for creating the thin, electron transparent specimens needed for TEM imaging and analysis. 整台仪器设计紧凑,触摸屏的设置,可以自动控制减薄过程. 离子源自清洗功能,省略了定期清洗离子源的工作. 离子源电磁聚焦磁场,金属样品微粒不会吸附在离子源处. 大样品台和悬空工作的设计,再加上超大空间样品室,使得样品散热效果明显. 样品采用弹簧卡头固定,避免用粘粘方法造成的样品污染问题,同时,可以在零角度时减薄。. 两个独立的离子源,其电压(0.1~6Kev),电流(3~10mA)可调. 减薄入射角-10o ~ +10o ,样品台旋转0o ~ 360o 制备具有大面积电子穿透区的样品, 采用无油分子泵可保持样品不受污染,抽真空的时间小于4分钟. 样品的观察可借助透射光或反射光. 液氮冷台可将样品冷冻到低于-150 o C(可选件) 技术参数: Variable voltage 0.1 to 6.0 kV operation (continuously adjustable) 两个离子源电压100eV~6.0KV连续可调 Beam current density up to 10 mA/cm2 束流密度最高可达10 mA/cm2,连续可调 Milling angle range of -10o to +10o 减薄入射角-10o ~+ 10o Specimen rock with 1o increments adjustable from 1o to 360o 样品台旋转0o ~ 360o Turbomolecular Vacuum Pump with an integral molecular drag stage (70lps) 涡轮分子泵 Oil-free diaphragm backing pump 无油隔膜泵 Vacuum sensing is accomplished with a Pirani gauge 真空测定用皮拉尼真空计 Two TrueFocus ion sources direct controlled diameter ion beams 专利设计的实时聚焦系统,会根据加速电压的不同,自动调整聚焦磁场强度,聚焦离子束。(与永磁铁的固定磁场不同)确保在低电压时,也具有超高的能量密度 Contamination-free specimen mounting 专用的样品夹技术,可以确保在零角度时的减薄时也没有污染。

对比栏隐藏对比栏已满,您可以删除不需要的栏内商品再继续添加!
您还可以继续添加
您还可以继续添加
您还可以继续添加
您还可以继续添加
您还可以继续添加