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  • 品牌:北京博远
  • 型号: ETD-2000C
  • 产地:北京
  • 供应商报价: 42000元
  • ETD-2000C既有溅射功能,同时也具备热蒸发功能,一机多用,转换方便,经济实惠。[查看全部]
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北京博远微纳科技有限公司

主营产品:扫描电镜/扫描电子显微镜,离子溅射仪

详细介绍

ETD-2000C型离子溅射蒸发是采用二级(DC)直流溅射原理设计而成的离子溅射镀膜设备。二极(DC)直流溅射是一种最简单、可靠、经济的镀膜技术,是许多厂商提供的离子溅射仪的基础。

ETD-2000C除了具有通常的基本结构外,它的特点是:配置有样品溅射室,真空显示表、溅射电流指示表、溅射电流调整控制器、微型真空阀、定时器。工作时结合内部自动控制电路很容易控制真空室压强、电离电流及选择所需的电离气体,获得最佳镀膜效果。

特殊设计的钟罩边缘橡胶密封圈,可保证长期使用不会出现影响样品溅射室真空度的玻璃钟罩“崩边”现象;陶瓷密封高压头比通常采用的橡胶密封更经久耐用。

根据电场中气体电离特性,采用大容量样品溅射真空室和相应面积溅射靶,使溅射镀层更均匀洁净。

并且ETD-2000C既有溅射功能,同时也具备热蒸发功能,一机多用,转换方便,经济实惠。

溅射

工作距离可调,距离越近,溅射速度越快,但热损伤会增加。离子流的大小通过控制真空压力实现,真空度越低,I越大,溅射速度越快,原子结晶晶粒越粗,电子轰击样品(阳极)产生的热量越高;真空度

越高,I越小,溅射速度越慢,原子结晶晶粒越细小,电子轰击样品产生的热量小。加速电压为固定,也有可调的,加速电压越高,对样品热损伤越大。

一般黄金比较稳定,可以采用空气作为等离子气源,而其他很多靶材则需要惰性气体为好。气体原子序数越高,动量越大,溅射越快,但晶粒会较粗,连续成膜的膜层较厚。保持真空室的洁净对高质量的镀膜有很大好处。

      蒸发

可提供碳的镀层,镀层精细均匀,适合非常粗糙的样品,高分辨研究。可以喷碳(碳棒或碳绳),有利于对样品中非碳元素的能谱分析。非导电样品观察背散射电子图像,进行EBSD分析,也应该喷碳处理。

但热蒸发功能容易对样品产生污染,蒸发温度过高(例如碳的蒸发温度为3500K),会损伤热敏感材料。



参数:

溅射气体:根据实验目的可添加氩气,氮气等多种气体。

溅射靶材:标配靶材为金靶,厚度为50mm*0.1mm。也可根据实际情况配备银靶、铂靶等。

溅射电流:最大电流50mA,最大工作电流30mA

样品仓尺寸:直径160mm,高120mm

样品台尺寸:样品台尺寸可安装直径50mm和直径70mm的样品台,也可根据自身要求定制样品台

工作电压:220V(可做110V),50HZ



ETD系列镀膜仪是一款专为SEM、TEM及薄膜应用设计的真空镀膜仪,对于扫描电镜尤其是高分辨场发射扫描电镜(SEM)样品制备、透射电镜(TEM)及其它非电镜(如材料领域)镀膜应用非常理想。ETD离子溅射仪采用金属压制的标准机箱,此机箱做工精良结构稳固。飞越牌真空泵抽数快,真空稳定性高自主设计的微型真空阀能准确的控制好压强,保证了镀膜期间最佳的真空条件。真空腔室直径为165mm (6.5英寸)硼硅酸盐玻璃,特殊设计的钟罩边缘橡胶密封圈,可保证长期使用不会出现影响样品溅射室真空度的玻璃钟罩“崩边”现象;陶瓷密封高压头比通常采用的橡胶密封更经久耐用。ETD系列含有电磁阀装置,在工作完毕后缓慢,平稳的进气以确保镀好的膜层尽可能的不被空气中的杂质所污染ETD系列有种型号:ETD-900、ETD-800、ETD-900C、ETD-800C、ETD-900M、ETD-3000、ETD-MH、ETD-CH其中ETD-900C为一款集成了离子溅射和热蒸镀两种真空镀膜方式的系统,镀膜头可在数秒内快速完成镀膜。它既可溅射易氧化及不氧化金属(贵金属),标配一块靶,可选金、银、铂等多种金属靶;用来制作高稳定性的碳膜和表面覆形膜,对透射电镜(TEM)的应用非常理想。

ETD-900M为一款溅射插入头磁控系统的溅射仪,可使溅射处理期间产生的高能电子偏转,从而远离样品,这有助于创建必要的冷溅射环境以消除热影响,且确保溅射成膜中的精细颗粒结构;

ETD-3000型为一款针对材料做电极的溅射仪,较高的输出电压能使成膜更加牢固,防止膜层脱落。

 

仪器特点:

 金属溅射和碳蒸发两者兼备,一体化设计,结构紧凑,节约空间。

 精细颗粒溅射——适合先进的高分辨率场发射扫描电镜和钨灯丝扫描电镜制样的应用。

  定时器控制——快速数据输入,操作简单。采用定时器作为简单的操作核心,即使最不熟练的或偶而使用的操作者,仪器也能使其快速键入自己的处理数据。

  微型真空调节阀让使用者更好调节真空,以适应不同的靶材和材料,形成最更优质的薄膜。

  精细的厚度控制——使用膜厚监控选项。(选配)

  先进的碳纤维夹持上盖——简单操作,重复性好。

  标配高低可调节样品台,可放置多个样品杯。还可定制多种型号样品台。

  自动泄气装备可防止真空泵由于压差原因使油倒灌进样品室,还可避免样品突然暴露在空气中造成膜的污染。

   标准成型机箱——小巧,美观,易维护和易拆装。

特殊设计的钟罩边缘橡胶密封圈,可保证长期使用不会出现影响样品溅射室真空度的玻璃钟罩“崩边”现象;陶瓷密封高压头比通常采用的橡胶密封更经久耐用。

 

 

部分可选项:

 光纤夹持旋转样平台

 球型旋转台

 显微镜载玻片样品台

 用于高样品的加高腔室

 膜厚监测附件(FTM),用于可重复膜厚控制:到达理想膜厚。

2000C 32.jpg


产品优势

ETD-2000C既有溅射功能,同时也具备热蒸发功能,一机多用,转换方便,经济实惠。

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